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青岛思锐申请等离子体增强原子层沉积设备及方法专利避免射频电源施加射频电压时正负极导通

作者:小编    发布时间:2026-02-12    浏览量:

  金融界2025年8月7日消息,国家知识产权局信息显示,青岛思锐智能科技股份有限公司申请一项名为“等离子体增强原子层沉积设备及方法”的专利,公开号CN120425321A,申请日期为2025年07月。

  专利摘要显示,本发明公开了一种等离子体增强原子层沉积设备及方法,设备包括工艺腔室、喷淋盘、绝缘隔离盘、射频电源和升降驱动机构,工艺腔室内支撑有晶圆,喷淋盘设置在工艺腔室内部,喷淋盘位于晶圆的上方,绝缘隔离盘位于喷淋盘与工艺腔室的内顶壁之间,绝缘隔离盘包括上下排布的第一绝缘隔离盘和第二绝缘隔离盘,第一绝缘隔离盘与工艺腔室固定连接,第二绝缘隔离盘与喷淋盘固定连接,射频电源用于施加射频电压使得通入的工艺气体发生电离产生等离子体,喷淋盘作为正极,工艺腔室作为负极,升降驱动机构用于驱动喷淋盘和第二绝缘隔离盘做升降运动以使得第二绝缘隔离盘与第一绝缘隔离盘密封贴合或者分离,避免射频电源施加射频电压时正负极导通。

  天眼查资料显示,青岛思锐智能科技股份有限公司,成立于2018年,位于青岛市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本112128.6051万人民币。通过天眼查大数据分析,青岛思锐智能科技股份有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目71次,财产线条,此外企业还拥有行政许可25个。

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